포토(광)플라즈마 원천기술에 대한 Method 특허권 침해경고!

 

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상표명(Trade Mark)으로 등록된 포토(광)플라즈마(PhotoPlasma) 발생원리(Method)는 30여개의 2차 반응물질 생성과정에 대해 국제특허로 보호받고 있습니다.

 

해외에서 다수의 업체가 알게 모르게 특허내용을 도용하거나 지적재산권을 침해하여 현재 법적소송과 손해배상에 휘말리고 있습니다!

 

당사는 특히 국내 중소기업들의 특허 침해를 심각하게 우려하고 있습니다!

​국내 포털 사이트에 기술설명 자료가 돌아다닌다고 해서 복사하여 자신이 개발한 기술 것처럼 일부 내용을 포장하거나 편집하여 악용하지 말기를 강력히 경고합니다!

 

이러한 행위는 명백한 범죄행위이며, 특허법에 의해 처벌받을수 있고, 패가망신을 당할 수 있습니다!

​바이오존이 보유한 Cold Oxygen Plasma(COP) 발생 및 반응기술에 대한 지적재산권이 없으면, 모든 것을 당장 중단하고 잘못된 내용을 당장 삭제하시기를 다시한번 엄중히 경고합니다!

 

특히, 교묘하게 OH 라디칼 살균기, OH 발생기, AOP 등으로 포장하였거나, UV(자외선)을 이용한 다양한 범위의 파장을 동시에 일으켜 다양한 라디칼과 살균이온을 생성한다는 원리(Method)를 국제특허로 보유한 사실이 없는 모든 업체는 해당 특허침해의 범위에 들어가 있음을 엄중히 경고합니다!

 

국내 특허청에 실용신안권이나 상표권을 등록했다고 해서 본 국제특허를 피해갈 수 없음을 공지합니다! 

 

[Method에 대한 특허권 침해사실 내용전문]

 

특허명(영문) : Method and apparatus for treatment of fluids
US 5961920 A

발행 번호	US5961920 A
발행 유형	승인
출원 번호	US 08/860,444
PCT 번호	PCT/SE1995/001575
공개 날짜	1999년 10월 5일
출원일	1995년 12월 22일
우선일	1994년 12월 28일
특허료 상태	지불됨
공표된 다른 특허번호:	DE69527086D1, DE69527086T2, EP0800407A1, EP0800407B1, US6358478, WO1996020017A1,
발행 번호	08860444, 860444, PCT/1995/1575, PCT/SE/1995/001575, PCT/SE/1995/01575, PCT/SE/95/001575, PCT/SE/95/01575, PCT/SE1995/001575, PCT/SE1995/01575, PCT/SE1995001575, PCT/SE199501575, PCT/SE95/001575, PCT/SE95/01575, PCT/SE95001575, PCT/SE9501575, US 5961920 A, US 5961920A, US-A-5961920, US5961920 A, US5961920A
발명자	Rune Soremark
최초 출원인	Benrad Aktiebolag

UV185nm 파장으로 오존(O3)을 발생하는 암과 동시에 254nm 파장에서 오존(O3)를 분해하여 하이드록실 라디칼(OH)을 포함한 프리라디칼 발생 메커니즘(Method)에 대한 전반적인 내용을 담은 모든 관련기술이 이에 해당됩니다.

 

다음과 같이 본 발명에 따른 모든 방법이 포함됩니다!

 

본 발명의 목적은 흐리는 공기의 정화, 물과 고체, 기체를 모두 포함하여 더 효율적인 살균방식으로서 오염된 물체의 살균소독의 문제점을 해결하기 위한 것입니다.

 

이는 청구 범위에 따른 방법 및 장치의 수단에 의해서 달성됩니다.

 

·        180nm~400nm 범위 내의 자외선(UV) 분광 파장의 노출에 기인한 조사법  

·        183.7 nm 파장에서 오존분자(O3)로의 변환법 

·        생성된 오존분자(O3)를 254nm 파장에서 산소(O2) 분자와 산소원자(O1)를 동시 생성법 

·        자유라디칼(Free Radicals) 및 하이드록실 라디칼(OH) 효율을 향상시키기 위한 산화물 촉매의 첨가법 

·        더 많은 활성산소(Activate Oxygen)을 얻기 위한 파장의 생성, 특히 자유라디칼의 생성효율을 증가시키는 364.9nm 파장 이용법

·        과산화수소(HO2, H2O2, 기타 과산화물)의 생성효율을 증가시키는 364.9nm 파장 이용법

·        Hydroxyl Radicals (HO'), Peroxyl Radicals (RO₂ '), (Singlet) Oxygen (¹ O₂), Diradicals (R'--O'), Alkoxy Radicals (RO')의 생성법.

·        본 내용에 일일이 열거하지 않았으나 장치의 구성과 고안과 관련된 모든 특허내용이 포함됨 

 

      {소비자 및 고객에게 고함!}

         인터넷 상에서 블로그, 카페, 홈페이지 등등을 통해 홍보하는 'OH라디칼' 운운하는 모든 제품의 제조자와 소비자

         에게 전달할 내용이 있습니다!

         특히, 소비자는 제조자나 판매자에게 반드시 요구해야 할 내용입니다.  

 

        1) 국제특허가 있는가?

            -국내특허청의 실용신안권(고안), 상표권은 특허가 아닙니다!

 

      2) OH 라디칼에 대한 당사자의 과학계로부터 인증받은 사실이 있는가?

            -OO연구소, OO대학과 공동연구, 살균시험 성적서 등을 믿으면 안됩니다!

             이러한 서류는 단순히 참고자료일뿐이며, OH라디칼 발생 사실을 증명하는 것이 절대 아닙니다!

 

      3) 자신이 개발한 기술이라면 언제, 어디에서, 누구에 의해, 연구되었고 과학적 사실로 검증되었나?

            -아마도 100%  그 증거를 제시하지 못할 것입니다. 

             인터넷상에 공개된 타사의 특허자료를 모아서 편집하고, 자신의 것처럼 교묘하게 위장한 것이기 때문입니다.

             해석하자면 부모도 없이 태어난 자식과 같습니다!

 

      4) 누가, 어디에서, 어떻게, 어떤 재료로 UV 램프와 촉매를 첨가했나? 

     -대부분이 영세한 소기업이며, 중국산 오존(O3)램프를 구입하여 응용한 것으로 과학적 기술적 근거가 없고,

       단순 무지하여 그저 용감한 것뿐입니다! 

       대기업이 남의 특허를 침해하면서 도용하지 않는 이유는 기업의 명예가 추락하고, 특허침해에 대한  대가가

       얼마나 큰지 잘 알기 때문입니다. 

       그러나 소기업(영세)은 언제든지 도망갈 준비를 하고 있거나 회사 문을 닫으면 된다고 생각합니다.

       중국의 예를 들면 특허를 침해하고 짝퉁을 만들고 들키면 도망갑니다!

      결국은 최종 소비자의 피해로 고스란히 남게 됩니다!